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Cleaning before photolithography

Organic contaminants can prevent proper adhesion of the photoresist layer, leading to defects in the patterning process. TOC monitoring helps verify that cleaning agents and rinse water are free from organic impurities.

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Cleaning after etching or implantation

Residual organic materials and other contaminants can interfere with subsequent processing steps and degrade device performance. Monitoring TOC ensures these contaminants are effectively removed to prevent defects.

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Chemical Mechanical Planarization

This polishing step uses a slurry of chemicals and abrasives to smooth wafer surfaces. Organic contaminants in the slurry can cause surface scratches or leave residues. TOC analysis confirms the cleanliness of slurry and chemicals to maintain wafer quality.

Quatre piliers de la qualité de l’eau pharmaceutique

Les 4 piliers de la qualité de l’eau pharmaceutique

Surveillance en temps réel de la conductivité, du COT, de la charge microbienne et de l’ozone pour la conformité à l’USP

Quatre piliers de la qualité de l’eau pharmaceutique

USP <643> Carbone Organique Total : une approche plus intelligente de la conformité

Comment la surveillance en temps réel du carbone organique total (COT) rationalise le contrôle de la qualité de l’eau pour la production pharmaceutique

Goutte d’eau sur semi-conducteur

Optimisation de la gestion du cycle de l’eau dans la fabrication de semi-conducteurs

Des solutions avancées pour garantir une qualité d’eau ultra pure (UPW)

Les capteurs de conductivité expliqués

Les capteurs de conductivité expliqués

Des capteurs à deux électrodes aux capteurs inductifs : comprendre les types de capteurs de conductivité, leur fonctionnement et leurs applications

Maîtriser la conformité USP <645>

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Comment la surveillance de la conductivité en temps réel garantit la pureté de l’eau pharmaceutique

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