В фотолитографии обычно используются фоторезистные химикаты, растворы проявителей (например, TMAH), антибликовые покрытия и растворители, полученные от сторонних поставщиков. Качество растворителей, таких как изопропиловый спирт или ацетон, обычно незначительно и не оказывает большого влияния на процесс. Однако качество процесса фотолитографии зависит от химических веществ, используемых для изготовления фоторезиста.
Производство фоторезиста – это сложная задача, сочетающая в себе высокоточную химическую рецептуру, строгий контроль качества и тонкое мастерство. Точное выполнение каждого шага имеет решающее значение.
Обеспечение точного веса фоторезистов в каждом контейнере в процессе розлива имеет важное значение и влияет не только на неизменное качество продукции, но и на экономическую эффективность и репутацию компании на рынке.
В этом важнейшем процессе промышленная технология взвешивания становится краеугольным камнем качества фоторезиста, особенно в точном измерении сырья, точном контроле ингредиентов, точном наполнении и окончательном контроле качества продукции.
Некачественное использование химикатов приводит к неравномерному нанесению покрытий и замедлению процесса литографии. Химическая стабильность и чувствительность фоторезистивных материалов часто зависят от рН раствора, который можно эффективно измерить с помощью с помощью pH-метров и датчиков МЕТТЛЕР ТОЛЕДО.
.png/_jcr_content/renditions/cq5dam.web.1280.1280.png "Встраиваемый датчик pH / датчик ОВП (Redox)")
